institut de shenyang réussit à développer le mastic en caoutchouc étanche & impermeable performant-尊龙凯时体育

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institut de shenyang réussit à développer le mastic en caoutchouc étanche & impermeable performant
source: date: 2017-03-28

l’institut de recherche et de conception en caoutchouc de shenyang a récemment terminé le développement du mastic d’étanchéité en caoutchouc imperméable à l’eau qui est principalement utilisé pour les expérimentations de neutrino en jouant un rôle d’étanchéité et d’imperméabilité pour les photomultiplicateurs, un élément noyau dont le nombre d’utilisation allant jusqu’à des dizaines de milliers. chaque photomultiplicateur dispose des composants électroniques compacts à l’intérieur, une enveloppe en verre et un boîtier en acier inoxydable à l’extérieur. sa température de l’environnement de travail est de 23℃. il est placé dans l’eau pure avec la profondeur maximale de 40m sous l’eau quand il est au service, la durée de vie requise est au moins de 20 ans. ainsi, l’exigence d’étanchéité du photomultiplicateur est rigoureuse.

pour assurer le fonctionnement normal des expérimentations, les photomultiplicateurs sont étanchés de multicouches qui sont respectivement de l’extérieur à l’intérieur le mastic d’étanchéité en caoutchouc, la colle de scellement et la garniture mécanique. l’institut de shenyang est principalement responsable à cette phase du développement du mastic d’étanchéité en caoutchouc imperméable qui nécessite une excellente résistance à l’eau, une forte adhérence et de bonne plasticité étant donné qu’il est scellé dans la couche la plus externe, en contact direct avec de l’eau.

le département du sud-ouest de l’institut de shenyang a regroupé les efforts de tous. après huit mois d’essais sans cesse et plus de 30 ajustements de formule, il a finalement achevé, selon les spécifications complètes du contrat, le développement du mastic d’étanchéité en caoutchouc imperméable dont la résistance, la viscosité, l’imperméabilité et d’autres indicateurs répondent aux exigences du contrat.

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